En la fabricación de semiconductores y en la comprobación de componentes electrónicos, existen numerosos procesos que requieren una regulación exacta de la temperatura. Esto incluye, por ejemplo, el grabado con plasma o la deposición en fase vapor organometálica (MOCVD) en el recubrimiento de semiconductores como una etapa preliminar de la producción de LED. Otras investigaciones típicas de la industria de los semiconductores, que dependen de la temperatura, son las pruebas de esfuerzo para las pruebas funcionales y de carga, las simulaciones de entorno y las pruebas en circuito de los componentes electrónicos.
Aplicaciones típicas
GRABADO CON PLASMA
En la producción de semiconductores, el grabado con plasma es un elemento fundamental de la cadena de procesos, en la que se distingue entre grabado seco y húmedo. En la actualidad, LAUDA ofrece soluciones de regulación de temperatura para el grabado en seco, en el que las placas semiconductoras (obleas) se tratan en una cámara de grabado al vacío con plasma. Los iones contenidos en el plasma bombardean las obleas y liberan así material. Por ejemplo, de esta manera es posible eliminar la capa de óxido de una placa de silicio para poder aplicar después las capas dopadas (capas que están mezcladas con átomos extraños y que, por tanto, tienen una cierta conductividad eléctrica). La temperatura del plasma influye en la velocidad y la eficacia del grabado. A una temperatura demasiado baja, el plasma no es suficientemente activo para desprender eficazmente el material. A una temperatura demasiado alta, el material puede desprenderse en exceso, lo que provocaría imprecisiones y daños. Por tanto, en la producción de semiconductores es importante controlar la temperatura del plasma con la máxima precisión, dado que las obleas se procesan en el rango micro y nanométrico. Incluso cambios leves de temperatura pueden provocar cambios relevantes en el tamaño y la forma de las estructuras grabadas. Para este delicado proceso, LAUDA ofrece los equipos Semistat de diseño especial.
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